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高端仪器装备

FPD Mask缺陷检测

在LCD、TFT、CF、Touch Panel制造中，光罩（也称Mask）用于批量转移电路设计图形到芯片上，承载了图形设计和工艺手艺等要害信息，光罩上的图形过失、颗�；鄣热毕荻蓟嵊跋熳钪詹返牧悸式档�，进而影响产品性能和可靠性。

维普STORM 2000SL系列大尺寸光罩检测装备，可应用于LCD、TFT、CF、Touch Panel、OLED、PDP等平板显示行业的Mask制造及基板制造历程。

STORM 2000SLV

STORM 2000SLV是维普针关于大尺寸Mask 基板开发的缺陷检测装备，适用于抛光板、铬板、均胶板中颗粒、针孔、脏污的检测。接纳先进的光学系统，通过一次扫描可完成颗粒、针孔的识别检测。针对Mask Blank基板厂商，具备高精度、高效率、易使用等重大优势。

应用场景

为G8.5及以下尺寸的Mask基板，提供高效的外貌缺陷检测计划。

要害特征

可兼容RSP200、Nikon Case、水晶盒的开盒与自动上下板
基于明场+暗场的检测方法
pellicle面、glass面、膜框内外部检测区域可无邪设置
缺陷位置与图形位置关系可视化展示
设置气浴风刀，可对外貌颗粒举行扫除

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STORM 2000SLH

STORM 2000SLH是维普针关于大尺寸Mask开发的缺陷检测装备，适用于LCD、TFT、CF、Touch Panel等大尺寸Mask光刻后的图形缺陷检测。接纳先进的光学成像与软件系统，可支持DB、DD、SL等检测模式，针对大尺寸Mask shop客户，具备高精度、高效率、易使用等重大优势。

应用场景

为G8.5及以下尺寸的Mask，提供高效的外貌缺陷检测计划，知足0.5um的缺陷检测能力。

要害特征

最大支持8.5代面板尺寸
支持Loader自动上下片，支持与AGV对接
自顺应支持多种规格的基板尺寸
支持DD、DB、SL检测模式
支持双光学头扫描，极大提高检测效率

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